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技術參數：
1. 高通量Zeiss光學系統
2. 波長范圍：190-900nm，可變狹縫0.2、0.5、0.8、1.2nm
3. 全自動6燈轉換
4. 橫向加熱石墨爐技術，加熱速率可達3000度/秒
5. 三磁場塞曼扣背景，磁場方向可調，磁場強度0-1T可調，同時可選擇2-磁場模式
6. 可固體進樣
主要特點：
1.緊湊型設計，石墨爐電源內置
2.采用更的橫向加熱石墨爐技術
3.的液體和固體石墨爐分析系統
4.配置3-磁場塞曼背景校正
5.氫化物-石墨爐直接聯用
6. ZEEnit650可同時配置三磁場塞曼和氘空心陰極燈背景校正技術
1. 高通量Zeiss光學系統
2. 波長范圍：190-900nm，可變狹縫0.2、0.5、0.8、1.2nm
3. 全自動6燈轉換
4. 橫向加熱石墨爐技術，加熱速率可達3000度/秒
5. 三磁場塞曼扣背景，磁場方向可調，磁場強度0-1T可調，同時可選擇2-磁場模式
6. 可固體進樣
主要特點：
1.緊湊型設計，石墨爐電源內置
2.采用更的橫向加熱石墨爐技術
3.的液體和固體石墨爐分析系統
4.配置3-磁場塞曼背景校正
5.氫化物-石墨爐直接聯用
6. ZEEnit650可同時配置三磁場塞曼和氘空心陰極燈背景校正技術
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